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紫外臭氧干法清洗设备
产品简介：
这是种利用紫外线和臭氧对光刻胶的脱膜、硅片的清洗、掩膜的清洗等各种去除表面有机物的干法清洗设备。是为了实现完全干法处理开发研制的最新产品。
产品特点：
Ø 与等离子清洗相比，可以避免由电子或离子的轰击带来的损伤；
Ø 紫外线UV与高浓度臭氧的并用实现了高效率脱膜；
Ø 可在大气压状态下进行操作，无需真空系统；
Ø 小型化设计；
Ø 操作与维护简单。
Ø 低成本。
产品应用：
Ø 光刻胶的脱膜；
Ø 油墨的去除；
Ø 残留有机物的去除；
Ø 掩膜的清洗；
Ø 硅、半导体化合物、水晶、液晶基板、透镜等的清洗；
Ø 有机物的去除，增强表面附着性。
技术参数：
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UV灯泡 |
110W×1, |
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样品台 |
铝制，Ø 200mm |
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样品台温度 |
室温～300℃ |
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气体导入系统 |
机械流量计，02(1ℓ／min) |
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计时器 |
0～99小时99分 |
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电源 |
AC100V |
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尺寸 |
450(W)×400(D)×440(H) |
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